碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中氮化鎵(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化鎵等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用
HMDS烘箱真空泵,IDP10無油泵泵具有密封設計,電機和軸承與真空環路全隔離,延長了軸承的使用壽命,并提供潔凈、無油的真空條件。IDP 泵采用單面渦旋設計,可通過簡單的工具在 15 分鐘內完成維護操作。可選的集成式隔離閥防止意外污染,并且不會額外增加泵的高度。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。